半導體廢水污染物種類多，成分復雜。半導體行業(yè)的廢水可以分為含氟廢水、含磷廢水、有機廢水、研磨廢水、氨氮廢水和酸堿廢水等等，其中含硅廢水很難脫硅，原始含硅廢水pH4.5，在TNA作用下，達到一定ORP電位值，硅膠表面吸咐的烴類表面活性劑類便會脫穩(wěn)，長分子鏈斷裂。三人行研發(fā)的穩(wěn)脫劑能破壞硅膠穩(wěn)定性，促進硅膠體脫穩(wěn)析出，從而能更好解決半導體廢水處理中的重金屬問題。

半導體廢水處理具有以下特點：

1、排放水量大

2、含有大量金屬離子

3、含有各種有機污染物

4、高濃度的極細懸浮顆粒

半導體廢水處理方法：

1、含氰清洗水的處理：含氰清洗水采用兩級堿性氧化法處理工藝。設置機械攪拌系統(tǒng)、PH控制系統(tǒng)、ORP控制系統(tǒng)以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統(tǒng)，通過在線pH/ORP值自動控制藥劑的投加量。首先進行一級氧化破氰，調(diào)節(jié)pH在10.5-11之同，ORP值300一4oo mv，反應時間15～20min，將CN-氧化就為CN0-。二級氧化破氰時調(diào)節(jié)pH在7～8之間，ORP值600～650m'V,反應時間15～20min，將CN0-完全氧化為CO2、N2，至此完成整個破氰過程。破氰后的含氰清洗水自流進入一般清洗水作進一步處理。

2、一般清洗水廢水處理：一般清洗水C0D<50mg/L，主要重金屬污染物為Ag、Cu、Ni，化學性質(zhì)相似，其氫氧化物的難度積都可以滿足排放標準的要求，因此合并一起處理，同時利用共沉淀原理還可以降低用堿量。加減沉淀法需要注意考慮pH控制條件和金屬離子共存時相互作用的影響。各種金屬離子去除的最佳pH，一般控制pH為8.5～9，然后投加重捕劑、混凝劑和絮凝劑進行混凝沉淀。沉淀上清液進入暫存池，作為回用系統(tǒng)原水，進入回用系統(tǒng)深度處理。

以上是三人行環(huán)境工程師為您簡單整理的半導體廢水處理方法，希望對您有所幫助，如需了解更專業(yè)半導體工業(yè)廢水處理技術(shù)，歡迎咨詢?nèi)诵协h(huán)境工程師。

東莞市三人行環(huán)境科技有限公司 是一家集設計、施工、運營為一體的環(huán)保治理企業(yè)，有專業(yè)的廢水處理研發(fā)團隊、廢水分析實驗化驗團隊、廢水處理運營團隊、工程實施維護團隊確保給客戶快速準確服務主要服務方向為：廢水處理、廢氣處理等，擅長工業(yè)廢水處理熟悉多種廢水處理研發(fā)生產(chǎn)工藝，從源頭上控制污染源的排放量，減少污泥量，更有利于達標排放和節(jié)約運營成本。

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